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成大前瞻奈米壓印技術研討會 即日起接受報名

採訪記者 : j 於 November 17, 2004 at 13:06:54 :

新聞內容 :

【台南訊】國立成功大學微奈米科技研究中心主辦的「前瞻奈米壓印技術研討會」暨「成功大學微米壓印技術及其應用於可撓曲顯示器元件之製作」計畫說明會,訂於十九日於成大光復校區國際會議廳登場。邀請德國、瑞典、韓國等資深教授,介紹前瞻奈米壓印技術,希望有助於提升國內前瞻奈米壓印技術的發展。

成大微奈米科技研究中心表示,歡迎半導體、電子、光電、生物科技公司研究人員及工程師,大專院校從事奈米材料、奈米元件、奈米製造、光電元件、電子元件、生物微機電之教授及學生,以及學術研究單位從事奈米科技、光電科技及生物科技之研究人員等相關從業人員報名參加,即日起接受報名,額滿一百人為止。洽詢專線(06)2380208孫博士。

奈米製造是奈米科技中重要的一環,但傳統光學微影需利用更低波長的光源,且搭配複雜周邊系統,才能達成100奈米以下圖案的製作。因此回到古老工藝技術,如印刷方式,採用以模板為基礎的圖案製作與轉移技術,可能提供更具競爭力的製程。奈米壓印技術是以模板為基礎的奈米製造技術中的佼佼者,該技術是由美國普林斯頓大學S. Y. Chou 教授在1995 年所提出的一種想法,在此技術中將具特定圖案之模子,以壓印機將其施加於鍍有高分子光阻層的基板上,待降溫後,移除模板,即可在光阻層形成所要圖案。該技術可輕易達成100奈米以下圖案的製作,其最高製程能力已達10nm以下。

目前,奈米壓印技術相當受到國內產官學研各界的重視,紛紛組織研究團隊,投入更多人力與資源進行這方面的研究。為瞭解先進國家在這方面的研究現狀,引進前瞻技術,並提供國內研究人員交流的機會。931117j
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